金融界 2024 年 12 月 16 日音讯,国家知识产权局信息数据显现,扬帆半导体(江苏)有限公司请求一项名为“一种碳化硅 Wafer 加工用陶瓷盘带片主动清洁洗刷机”的专利,公开号 CN 119114479 A,请求日期为 2024 年 10 月。
专利摘要显现,本发明公开了一种碳化硅 Wafer 加工用陶瓷盘带片主动清洁洗刷机,包含:机架;基座,其可滚动的安装在机架上;二流体设备,其设置于基座一侧;清洁毛刷,其设置于基座一侧;氮气喷嘴,其朝向基座;其间,陶瓷盘放置于基座上,陶瓷盘上设置有碳化硅 Wafer,基座朝向清洁毛刷一侧歪斜安置,二流体设备上设置有二流体喷头,二流体喷头朝向基座,清洁毛刷固定安装在榜首驱动电机的输出端,二流体设备固定安装在转轴上,转轴固定安装在旋转气缸输出端。本发明相较于现存技能,处理现有碳化硅 Wafer 工艺流程中抛光液清洗不及时导致的清洁不完全、资源糟蹋的问题。
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